2025 / 01 / 03

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Abrazadera de oblea de PEEK | Solución de sujeción eficiente en la fabricación de semiconductores

En el sector global de fabricación de circuitos integrados, las limitaciones de capacidad se han convertido en la norma, lo que ha impulsado una inversión significativa en campos relacionados con los circuitos integrados en China durante los últimos dos años. Este auge de la inversión no solo ha impulsado el rápido desarrollo de las industrias de fabricación de equipos para dispositivos semiconductores, componentes electrónicos y materiales electrónicos especializados, sino que también ha impulsado un aumento de la demanda de materiales de alto rendimiento como el PEEK.

El material PEEK (polieteretercetona), con su excepcional resistencia a altas temperaturas, resistencia al desgaste, estabilidad dimensional, resistencia a la corrosión química y facilidad de procesamiento, ha demostrado ventajas inigualables en la fabricación de semiconductores. Especialmente en el campo de la sujeción de obleas, las abrazaderas de PEEK se han convertido en una herramienta indispensable gracias a sus propiedades únicas. Estas abrazaderas garantizan la integridad de la oblea, mejoran significativamente la eficiencia de la producción y optimizan los índices de rendimiento. En consecuencia, las abrazaderas de PEEK están ganando cada vez más atención y se están aplicando ampliamente en la industria de los semiconductores.

Las principales ventajas de las abrazaderas para obleas de PEEK son las siguientes:

1. Sujeción sin contaminación.
Las abrazaderas para obleas de PEEK utilizan gránulos de PEEK modificados de altísima pureza, prácticamente sin trazas de elementos que puedan contaminar las obleas de silicio. Esto garantiza una seguridad absoluta durante el proceso de sujeción.

2. Protección antiestática
Las abrazaderas de obleas de PEEK poseen excelentes propiedades antiestáticas, con una resistividad superficial que varía entre$10^5$            a$10^{10}$ Ω. La resistividad de los cabezales de la abrazadera puede incluso            alcanzar$10^7$            -$10^8$ Ω, que previene eficazmente daños por descarga electrostática (ESD) en las obleas de silicio y brinda protección            integral.

3. Estabilidad a Altas Temperaturas.
Las abrazaderas para obleas de PEEK pueden operar en entornos de alta temperatura de hasta 260 °C, manteniendo alta resistencia, estabilidad dimensional y un bajo coeficiente de expansión térmica. Su superior resistencia al desgaste por deslizamiento y rozamiento garantiza que no se produzcan rayones ni residuos en la superficie de las obleas o chips de silicio durante la sujeción, preservando así la limpieza de la superficie.

Cabe destacar que los gránulos PEEK5600ESDZ01 desarrollados por Junhua Co. representan un material antiestático diseñado específicamente para abordar problemas de electricidad estática. Con una resistividad superficial estable y controlable que varía            entre$10^5$            a$10^9$ Ω, presenta un rendimiento excepcional en cuanto a propiedades antiestáticas, procesabilidad y            apariencia. Tiene amplias aplicaciones en la electrónica, los semiconductores y la industria petrolera, reduciendo eficazmente las pérdidas causadas por la electricidad estática.

Además, estos gránulos antiestáticos se utilizan en carcasas de productos y componentes estructurales a prueba de explosiones, como carcasas de productos eléctricos y piezas estructurales en minas de carbón, petroleros y yacimientos petrolíferos. Esto demuestra sus amplias posibilidades de aplicación y su enorme potencial de mercado.